高純度モリブデン箔
高純度モリブデン箔は金属モリブデン (Mo) で作られた薄いシート状の材料で、通常純度は 99.95% を超えます。{0}一般的な仕様には、99.97%、99.99%、さらには 99.999% などがあります。モリブデン金属の優れた物理的および化学的特性と箔材料の軽さ、薄さ、柔軟性を兼ね備えており、多くのハイテク分野で不可欠な重要な材料となっています。-純モリブデン箔は、産業およびエンジニアリング用途で高品位のモリブデン材料を表す一般的に使用される用語です。{9}}
- 製品説明
高純度モリブデン箔
高純度モリブデン箔は金属モリブデン (Mo) で作られた薄いシート状の材料で、通常純度は 99.95% を超えます。{0}一般的な仕様には、99.97%、99.99%、さらには 99.999% などがあります。モリブデン金属の優れた物理的および化学的特性と箔材料の軽さ、薄さ、柔軟性を兼ね備えており、多くのハイテク分野で不可欠な重要な材料となっています。-純モリブデン箔は、産業およびエンジニアリング用途で高品位のモリブデン材料を表す一般的に使用される用語です。{9}}
製品の特徴
1.高純度の利点が顕著です。
このモリブデン箔の純度は99.95%を超えています。この特性により、不純物の悪影響が大幅に軽減されます。通常のモリブデンに含まれる鉄、ニッケル、炭素、その他の不純物は、モリブデンの電気伝導率と熱伝導率を低下させ、高温条件下では脆性相を形成することもあります。-。ただし、モリブデン箔により安定した信頼性の高い性能が保証されます。モリブデン箔は純度が高いため、不活性雰囲気または真空中で最大 1900 度以上の温度に耐えることができます。半導体または電子ビームの用途では、不純物により微小漏れや不均一な放出が発生する可能性があります。-このような厳しい要件を満たすためには、高純度モリブデン箔が不可欠な材料となります。{10}
2. 独特の箔形状
このモリブデン箔の厚さの範囲は通常、0.005 mm ~ 0.1 mm (5 ミクロン~100 ミクロン) です。幅と長さはお客様のご要望に応じてカスタマイズできます。モリブデンは硬い金属ですが、ある程度厚みを薄くするとある程度の柔軟性が得られ、巻き取り、打ち抜き、積層などの作業が容易になります。さらに、そのシート状の形状により、比表面積が大きくなり、加熱、シールド、触媒作用など、広範囲の接触を必要とする用途での効率が向上します。
3. モリブデン金属本来の利点が顕著
モリブデン箔はモリブデン金属の多くの優れた特性を継承しています。その融点は2620度と高く、ステンレス鋼、銅、アルミニウムなどの一般的な金属の融点よりもはるかに高くなります。熱膨張係数は約 4.8 × 10-6 /K とシリコンやガラスセラミックと同様に低く、熱応力が比較的小さくなります。電気伝導率と熱伝導率の点では、銅の約 1/3 ですが、多くの高温合金よりもはるかに優れています。-また、モリブデン箔は、急激な温度変化にも割れることなく耐熱衝撃性に優れ、ほとんどの酸(フッ酸、濃硝酸を除く)や溶融金属に対して安定した耐食性を有します。

応用
純モリブデン箔は、その安定性と一貫性により、複数の高性能産業に広く適用されています。{0}
1.高温炉コンポーネントの分野-
真空炉または保護雰囲気炉では、モリブデン箔を断熱スクリーンとして使用できます。モリブデン箔を何層にも重ねることで熱輻射を効果的に反射します。同時に、加熱ストリップ、トレイ、るつぼなどに加工することもでき、サファイア、セラミック、硬質合金などの材料の焼結に使用することもでき、高温環境での使用要件を満たします。-
2. 半導体・エレクトロニクス分野
イオン注入プロセス中に、高純度モリブデン箔をゲート電極および加速電極として使用できます。 MOCVD(有機金属化学気相成長)装置では、加熱基板として使用できます。フラット パネル ディスプレイ(TFT-LCD など)分野では、モリブデン ターゲットをスパッタリングするためのバックボード材料として使用できます。パワーエレクトロニクス機器では、電子機器の正常な動作を確保するためのヒートシンクまたは放熱板としても使用できます。
3. 航空宇宙・防衛分野
モリブデン箔は、ロケット ノズルや、極度の高温環境に耐えることができるミサイル尾翼の前縁の高温耐性シールド層の製造に使用できます。{{0}-液体金属(リチウム、鉛-ビスマス合金など)回路では、システムのシールと安定性を確保するためのホイルシールコンポーネントとして使用できます。
4. 医療機器分野
X-線管では、モリブデン箔はターゲット プレートの回転支持構造として機能し、その高い熱伝導率と低いガス透過性を利用して X- 線管の性能を確保します。放射線治療用コリメータでは、モリブデン箔の複数の層が格子を形成し、放射線治療の正確な位置決めを実現します。
5. 研究・新エネルギー分野
研究室での高温高圧合成実験では、モリブデン箔を発熱体として使用して、安定した高温環境を提供できます。-全固体電池や燃料電池では、電池の性能を高めるための集電体や絶縁層として使用できます。さらに、グラファイトまたはカーボン-複合材料の表面の保護コーティングとして使用して、材料の耐用年数を延ばすこともできます。

仕様
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アイテム |
仕様 |
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材料 |
高純度モリブデン(Mo) |
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純度 |
99.9%以上(3N) / 99.99%以下(4N) |
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密度 |
10.2g/cm3 |
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厚さの範囲 |
0.01 – 0.5 mm (カスタマイズ可能) |
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幅 |
300 mm 以下 (カスタマイズ可能) |
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長さ |
シートをコイル状にするか、--サイズにカットします |
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表面状態 |
ブライト / ロール / ポリッシュ |
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融点 |
2623度 |
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動作温度 |
1800℃まで(真空・不活性雰囲気) |
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最高温度 (酸化) |
600度以下 |
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抗張力 |
600 MPa 以上 (標準) |
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伸長 |
5% – 15% |
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熱伝導率 |
~138 W/m·K |
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熱膨張係数 |
~4.8 × 10⁻⁶ /K |
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標準 |
ASTM B386 / GB/T 3876 |
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アプリケーション |
半導体、真空炉、航空宇宙、エレクトロニクス、科学研究 |
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処理 |
圧延、切断、焼鈍(カスタムOEM可能) |
カスタマイズされたサービス

当社は、お客様によって製品に対する要求が異なることを十分に承知しています。したがって、私たちは包括的なカスタマイズサービスを提供します。
お客様のご要望に応じて、モリブデン箔の厚さ、幅、長さをカスタマイズできます。厚み範囲は0.005mm~0.1mmで、幅や長さの調整も柔軟に行えます。
同時に、生産プロセス中に、製品が顧客の特定のアプリケーションシナリオを確実に満たすように、顧客の特別な要件に従って生産プロセスパラメータを厳密に調整します。
当社には、お客様と深くコミュニケーションをとり、お客様がプロジェクトの目標を達成できるよう専門的な提案やソリューションを提供できる専門的な技術チームがいます。

よくある質問
1. 純モリブデン箔は何に使用されますか?
高純度モリブデン箔は、その優れた高温安定性と導電性により、半導体、真空炉、航空宇宙部品、薄膜堆積(PVD/CVD)、科学研究などで広く使用されています。{0}{1}
2. どのような純度レベルが利用可能ですか?
一般的な純度の範囲は、エレクトロニクス、真空システム、精密機器などのアプリケーション要件に応じて、99.9% (3N) ~ 99.99% (4N) です。
3. モリブデン箔はどのくらいの温度に耐えられますか?
真空または不活性ガス環境で最大 1800 度まで動作でき、融点は 2623 度であるため、極度の高温用途に最適です。
4. モリブデン箔は高温の空気中で使用できますか?
お勧めしません。酸化環境では、高温になると酸化が促進されるため、約 600 度以下に制限する必要があります。
5. どのような厚さの範囲が利用可能ですか?
一般的な厚さの範囲は 0.01 mm ~ 0.5 mm で、極薄箔はエレクトロニクスや研究用途向けにカスタマイズできます。-
6. モリブデン箔が半導体に使用されるのはなぜですか?
なぜなら、次のような特徴があるからです。
高い熱伝導率
低熱膨張
安定した電気特性
薄膜堆積、基板、ヒート スプレッダに最適です。{0}
7. モリブデン箔は耐食性がありますか?
はい。酸、溶融金属、不活性ガス環境に対して強い耐性を持っていますが、高温の強い酸化条件では不安定になります。
8. モリブデン箔はカスタマイズできますか?
はい。次の方法でカスタマイズできます。
厚さ
幅(最大300mm以上)
長さ(コイルまたはカットシート)
表面仕上げ(ブライト、ロール、ポリッシュ)
9. モリブデン箔はどのような業界で一般的に使用されていますか?
主な産業には次のようなものがあります。
半導体とエレクトロニクス
航空宇宙と防衛
真空炉の製造
太陽エネルギー
科学研究所
10. 他の金属と比較したモリブデン箔の主な利点は何ですか?
他の金属と比較して、次のような利点があります。
ほとんどの金属よりも融点が高い
低い熱膨張(高い寸法安定性)
優れた熱伝導性と電気伝導性
真空/高温環境でも強力なパフォーマンスを発揮します。{0}
このため、高温および真空環境では純モリブデン箔が推奨されます。{0}
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